High-k结晶度

水晶的属性high-k金属门和其他金属氮化/电影关键设备性能先进的逻辑,从finFETs到nanosheet设备。用x射线衍射可以测量结晶度的电影。然而,high-k电影有一个额外的挑战:通常他们是小于2纳米厚。

力量半介绍了全自动平面衍射到JVX7300LSI系统监控的晶粒尺寸和结晶度high-k电影在生产环境中。在这里的例子中,3电影发展,在不同温度下退火。D05和D06 XRD模式重叠显示相同的结晶相;然而D04样本有不同的XRD表明相变结构模式,从而导致介电常数的变化。此外,晶粒尺寸增加,会引起贫穷high-k层的电气性能。

的D8发现+是力量的旗舰超薄无定形的分析,x射线衍射解决方案多晶和外延电影。通过应用Coplanar-Diffraction(左)和Non-Coplanar衍射(右),晶格参数和微晶的大小可以确定与无与伦比的精度以及平行于样品表面垂直。密苏里州5 nm厚的呈现情况下电影,高各向异性在晶格参数和微晶大小观察:垂直微晶大小等于膜厚度,而平面微晶大小超过两倍(11.4海里)。