Ultraschnelle Abbildung我EBSD Proben mittels Orientierungskontrast (vorwartsgestreute Elektronen /工程师协会)和Ruckstreukontrast(疯牛病)

Beste Bildqualitat努尔麻省理工学院ARGUS-System

Das Bildgebungssystem ARGUS kombiniert一张geniale观念(美联社等所有)麻省理工学院hochwertigen Siliziumdioden和Brukers unubertroffener Signalverarbeitungstechnologie,嗯FSE -麻省理工学院和BSE-Bilder unubertroffener Qualitat和Detailtreue祖茂堂liefern。这里死wichtigsten Funktionen,死ARGUS苏珥besten Losung麦臣,死heute verfugbar坚持:

•FSE -高明Orientierungskontrast Falschfarben

•疯牛病——Hochwertiger Materialkontrast anhand Ruckstreuelektronen

•Abbildung麻省理工学院Geschwindigkeiten冯bis祖茂堂125.000 Pixeln / Sekunde

•Schnelle和vollautomatische Signaloptimierung der ESPRIT的软件

书房里•死Signalverstarkungselektronik是vollstandig EBSD-Detektor integriert, d.h走读生Anbauten了不benotigt

•Vom Benutzer austauschbare Dioden

ARGUS Bildgebungssystem

在einem Phasenkontrast Querschnitt-BSE-Bild静脉thermischen Barrierebeschichtung auf静脉Turbinenschaufel

Orientierungskontrast进行Edelstahls来自添加剂Fertigung

死oben beschriebenen ARGUS-Spezifikationen kombiniert麻省理工学院verschiedenen ESPRIT-Softwarefunktionen ergeben leistungsstarke Vorteile毛皮verschiedenste Anwendungen。海尔努尔einige Beispiele:

Zeitaufgeloste Visualisierung冯Proben贝In-situ-Experimenten, z.B In-situ-Zug -和KompressionstestsESPRIT TRM-Funktion
Prazise Driftkorrektur贝姆EBSD-Mapping - ESPRIT Correction-Funktion漂移
替代苏珥sehr schnellem EBSD-Mapping -快速EBSD-Funktion
Visualisierung冯geringsten Orientierungsanderungen和magnetischen Domanen Kristallen

Anwendungsbeispiele

Weitere Informationen吧台Vorteilen des ARGUS-Bildgebungssystems和Anwendungsbeispielen法登您在unser Bildergalerie unten奥得河verwandten视频unserem汪汪汪力量纳米分析YouTube-Kanal。

Abb。1: ARGUS BSE-Bild静脉thermischen Barrierebeschichtung auf静脉Turbinenschaufel bestehend来自mehreren Phasen麻省理工学院unterschiedlicher Elementarzusammensetzung, d.h unterschiedlichen durchschnittlichen Ordnungszahlen。

Abb。2: ARGUS FSE-Bild进行austenitischen Edelstahls来自添加剂Fertigung,麻省理工学院的sehr heterogene Mikrostruktur。Das召集ergibt西奇来自民主党repetitiven《这本Herstellungsprozesses。死Farbvariation请Anderungen der Kristallorientierung死去。

Abb。3: ARGUS FSE Bild (Orientierungskontrast)冯verformtem铜。

Abb。4: ARGUS FSE-Bild静脉Duplex-Stahlprobe,死亡8 Stunden贝650°C gegluht,。Struktur死ursprungliche gebanderte是音麦带向麻省理工学院großen Austenit-Kornbandern,死的军队集群冯·铁素体-σ-和Chi-Phasen getrennt了。

Abb。5: ARGUS FSE-Bild静脉Co-Legierungsprobe去Indentierung麻省理工学院Hysitron PicoIndenterπ89。Merkmale kristallographischen Ursprungs,模改模Aktivierung mehrerer Gleitsysteme hinweisen,信德在der Nahe der Indenter-Eindrucke贝3、9和12表向。

Abb。6: ARGUS FSE-Bilder静脉AZ31-Probe In-situ-Kompressionstests票(链接)和anschließenden Zugversuchen(雷希特)。Umfangreiche Zwillingsbildung,死当des Kompressionstests stattgefunden帽子,协助der oberen诈骗Ecke der Darstellung祖茂堂看清的链接。死meisten Zwillinge verschwanden在内的des Zugversuchs来自diesem德国der探针(Darstellung雷希特)。

Abb。7: 12像素ARGUS FSE-Bild静脉polykristallinen探针麻省理工学院geringer Vergroßerung;unkorrigiertes Bild auf der诈骗Seite,《图片报》改der rechten Seite去automatischer Hintergrundsubtraktion军队ESPRIT 2软件是不可或缺des扫描。3 Minuten Aufnahmezeit战争。

Abb。8: ARGUS FSE-Bild静脉einkristallinen AlGaN-Schicht,死西奇auf einem strukturierten Saphirsubstrat abgeschieden,。死有Oberflachentopographie verursacht死beobachtete Farbvariation。

Abb。9: ARGUS FSE-Bild des gleichen德国是不是在Abb。8,但麻省理工hoherem Abnahmewinkel毛皮死vorwartsgestreuten Elektronen军队angepasste Positionierung ARGUS-Dioden。死在这里gewahlte Geometrie来探测Detektor reduziert死Intensitat des Topographiekontrasts和ermoglicht死Visualisierung mikrostruktureller Merkmale。秋季diesem erkennt男人一张Wabenstruktur,死的军队das Vorhandensein冯Restspannung在der einkristallinen Schicht erzeugt将。这张Restspannung entsteht军队minimale Fehlpassung der AlGaN-Schicht贝姆Aufwachsen auf das Wabenformig strukturierte Saphirsubstrat。

Abb。10: ARGUS FSE-Bild冯gesintertem martensitischem-Stahl,韦尔奇große Martensit-Regionen麻省理工学院kleineren Ferritkornern dazwischen zeigt。