QCVELOX-E
最佳HRXRD外延层的性能监控
系统主要epi的首选厂家
常规分析的基本工具半导体基板,外延层结构和加工设备晶片。
突出了
QCVELOX-E
的力量QCVelox-E epi领先制造商的首选是系统来监测他们的生产线。它是基于行业标准QC3,重大升级吞吐量、可靠性和易用性。通过使用最佳x射线源和光学技术,它与良好的可重复性,使夫妻高吞吐量的快速反馈层质量和结构在一个生产环境。
最佳x射线
源和光学技术
真正的自动化操作
常规分析半导体基板,外延层结构和加工设备晶片
Eigenschaften
自动操作
QCVelox-E提供真正的自动化操作,直接水平样本安装,完全自动对齐,测量包括完整的映射没有边缘排除,和自动数据分析。一个集成的条形码阅读器安装在生产环境中援助效率。
处理程序是一个可选的机器人可以自动从磁带加载和测量,以及选择SECS-GEM主机系统和其他工厂。
QCVelox-E是必不可少的工具,常规分析半导体基板,外延层结构和加工设备对所有化合物半导体晶片材料。雷竞技网页版
支持
支持
我们如何帮助?
力量合作伙伴与客户解决实际应用问题。我们开发新一代技术,帮助客户选择合适的系统及配件。这种伙伴关系继续通过培训和扩展服务,很久以后销售的工具。
我们的训练有素的团队的支持工程师,科学家和应用主题专家是完全致力于最大化工作效率与系统服务和升级,以及应用程序的支持和培训。