FilmTek 3000一样
结合reflection-transmission分光光度法优化了高度吸收图案的薄膜
突出了
FilmTek 3000一样
的FilmTek™3000 PAR增强我们独特的结合reflection-transmission分光光度计的设计允许有图案的薄膜沉积在透明基板的特性,特别是很薄吸收电影像那些用于光学防反射涂层、激光反射镜,和薄金属,以及其他许多人。
除了完全整合套件先进的和专有的材料建模软件和优化算法,该系统利用我们的专利抛物面镜技术实现一个小光斑大小(降至50µm)和增强其兼容性与图案的薄膜样品。结果,3000年FilmTek PAR提供相同级别的性能和数据质量为图案的薄膜表征FilmTek 3000提供了未成形的薄膜样品,方便用户收集精确,同时反射和透射测量具有挑战性的图案的薄膜样品,甚至那些DUV高度吸收。
50µm光斑大小
reflection-transmission测量
提供改进的精度上有图案的电影和用于测量垫较小的应用程序。
多通道
设备解决方案
同时提供了反射和传输数据。
专利
光学配置
FilmTek reflection-transmission分光光度法技术的功能扩展到包括图案的样本。
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Eigenschaften
测量功能
可以同时测定:
- 多个层厚度
- 的折射指数(n(λ))
- 灭绝(吸收)系数(k(λ))
- 能量带隙(如)
- 组成部分,空隙率
- 表面粗糙度
系统组件
标准:
- DUV-NIR光纤分光光度计
- 反射光谱测量
- 光谱传输测量
- 自动化与自动对焦
- 相机成像测量位置
- 50微米光斑大小
- 模式识别
- 先进材料建模软件
- 力量的广义物质模型与先进的全局优化算法
可选:
- 自动化的样品处理
Anwendungen
典型应用领域
几乎所有的半透明的薄膜厚度从低于100,约150µm可以测量精度高。典型的应用领域包括:
- 光子学和电信
- 平板显示器
灵活的软件,可以很容易地修改以满足独特的客户需求研发和生产环境。
Spezifikationen
技术规格
| 膜厚度范围 | 3 nm 150µm |
|---|---|
| 膜厚度精度 | 1000±1.5 NIST可追踪的标准氧化1µm |
| 光谱范围 | 220 nm - 1700 nm (220 nm - 1000 nm标准) |
| 测量光斑大小 | 25µm - 300µm(50µm标准) |
| 样本大小 | 50毫米- 300毫米(150毫米标准) |
| 光谱分辨率 | 0.3 - 2海里 |
| 光源 | 监管deuterium-halogen灯(2000小时寿命) |
| 探测器类型 | 2048像素索尼冷却滨松InGaAs CCD线阵CCD阵列/ 512像素阵列(NIR) |
| 电脑 | 多核处理器操作系统Windows™10 |
| 测量时间 | < 1秒/站点(例如,氧化膜) |
性能规格
| 电影(年代) | 厚度 | 测量参数 | 精度(1σ) |
|---|---|---|---|
| 氧化/ Si | 200 - 500 | t | 0.5 |
| 500 - 10000 | t | 0.25 | |
| 1000年,一个 | t、n | 0.25 / 0.001 | |
| 氮化硅/硅 | 200 - 10000 | t | 0.5 |
| 光刻胶/ Si | 200 - 10000 | t | 0.5 |
| 晶硅/氧化/ Si | 200 - 10000 | t | 0.5 |