FilmTek 3000
Micro-spot reflection-transmission计量的花纹,不均匀,在透明基板厚膜
突出了
FilmTek 3000
的FilmTek™3000 micro-spot reflection-transmission计量系统能够高效、准确的测量有图案的薄膜沉积在透明基板,包括晶片。此外,它优于传统的micro-spot测量功能的系统,即使在非均匀采样,并能描述电影比竞争更厚的仪器可以容纳。
传统micro-spot电影计量系统使用大功率的目标,使他们容易受到信号严重退化和光学构件。相反,FilmTek 3000使用我们的专利microscope-based光学设计-我们所有的“M”系列仪器的特点,具有低功耗的目标几乎平行光束。因此能够实现测量光斑尺寸下降到2µm期间与持续高信号保真度小,micro-spot测量。因此,FilmTek 3000提供与最大信号相干反射和透射光谱测量,提供一流的准确性和可靠性下测量样品不容易或与传统仪器。
选项是可用的优化FilmTek 3000的设计为更专门的测量,包括大型平板显示器应用程序定制样品阶段。这个系统也可以配置为提供完全自动化成像进行临界尺寸(CD)测量的样品,同时允许CD和膜厚度测量。
吸收
样本的兼容性
可以准确表征样本没有可衡量的竞争系统。
可定制的
专业配置
扩展测量功能和样本兼容性为平板显示器和薄片/ CD计量应用程序。
2嗯现货
近平行梁
最大化信号反射和透射测量的一致性和可靠性。
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Eigenschaften
测量功能
可以同时测定:
- 多个层厚度
- 的折射指数(n(λ))
- 灭绝(吸收)系数(k(λ))
- 能量带隙(如)
- 临界尺寸(CD)测量
系统组件
标准:
- 反射光谱测量
- 光谱传输测量
- 专利microscope-based光学设计允许sub-10µm点低功率的目的
- 5 nm - 50嗯厚度范围
- 2嗯光斑大小(5 x10嗯标准)
- 自动化与自动对焦
- 相机成像测量位置
- 模式识别
- 大型平板显示器应用程序自定义阶段
- 先进材料建模软件
- 力量的广义物质模型与先进的全局优化算法
可选:
- 自动平板/晶片处理
- 平板总厚度变化(TTV)测量
- 秒/宝石
Anwendungen
典型应用领域
典型的应用领域包括:
- 晶片/ CD计量
- 平板显示器
灵活的软件,可以很容易地修改以满足独特的客户需求研发和生产环境。
Spezifikationen
技术规格
| 膜厚度范围 | 5 nm 350µm (5 nm 150µm标准) |
|---|---|
| 膜厚度精度 | 1000±1.5 NIST可追踪的标准氧化1µm |
| 光谱范围 | 380 nm - 1700 nm (380 nm - 1000 nm标准) |
| 测量光斑大小 | 2µm (5 x10µm标准10倍的目标) |
| 样本大小 | 2毫米- 600毫米(150毫米标准) |
| 光谱分辨率 | 0.3 - 2海里 |
| 光源 | 监管的卤素灯(2000小时寿命) |
| 探测器类型 | 2048像素索尼冷却滨松InGaAs CCD线阵CCD阵列/ 512像素阵列(NIR) |
| 电脑 | 多核处理器操作系统Windows™10 |
| 测量时间 | < 1秒/站点(例如,氧化膜) |
性能规格
| 电影(年代) | 厚度 | 测量参数 | 精度(1σ) |
|---|---|---|---|
| 氧化/ Si | 500 - 1000纳米 | t | 0.025纳米 |
| 1 - 150µm | t | 0.005% |