FilmTek SE
流线型的选择精确的、可重复的光谱椭圆光度法
突出了
FilmTek SE
“SE”产品线的基本模型,在FilmTek™SE自动化台式光谱椭圆计为用户提供了一个简化的选择快速、轻松地收集高度精确、可重复的测量在一系列和超薄薄膜样品。
这个系统能够快速、准确、简单的膜厚度测量,折射率和消光系数与可测量的厚度范围的< 1到50µm。它能够测量任何光学同质,半透明的单层或多层膜在这个小范围。基于先进的旋转补偿器的设计,该系统提供最佳的测量性能等几乎所有电影样本,甚至那些沉积在硅或玻璃基板。
这个价格适宜的椭圆计是适合使用在学术和研发的设置,特别是对于调查超薄薄膜的厚度和均匀性(0.03一个重复性原生氧化)。
最好的价值
基础平台
提供了广泛的高性能薄膜测量样品以低成本。
流线型的
标准配置
没有附加组件或模块实现一流的速度和准确度。
易于使用的
系统和软件
确保任何经验水平的用户可以收集高质量ellipsometric数据。
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Eigenschaften
测量功能
可以同时测定:
- 多个层厚度
- 的折射指数(n(λ))
- 灭绝(吸收)系数(k(λ))
- 能量带隙(如)
系统组件
标准:
- 光谱椭圆对称旋转补偿器设计(390 nm - 950 nm)
- 自动化与自动对焦
- 适合测量超薄电影(0.03对原生氧化可重复性)
- 负担得起的几乎任何预算
- 先进材料建模软件
- 力量的广义物质模型与先进的全局优化算法
Anwendungen
典型应用领域
几乎所有的半透明的薄膜厚度从不到100大约50µm可以测量精度高。典型的应用领域包括:
- 半导体和绝缘材料雷竞技网页版
- 多层光学薄膜
- 光学增透膜
- 薄金属
- 太阳能电池
与灵活的硬件和软件,可以很容易地修改以满足独特的客户需求,尤其是在学术和研发环境。
Spezifikationen
技术规格
| 膜厚度范围 | 0到50µm |
|---|---|
| 膜厚度精度 | 100±1.0 NIST可追踪的标准氧化1µm |
| 光谱范围 | 380 nm - 950 nm |
| 测量光斑大小 | 3毫米 |
| 样本大小 | 2毫米- 300毫米(150毫米标准) |
| 光谱分辨率 | 0.3纳米 |
| 光源 | 监管的卤素灯(10000小时寿命) |
| 探测器类型 | 2048像素索尼线性CCD阵列 |
| 电脑 | 多核处理器操作系统Windows™10 |
| 测量时间 | ~ 2秒/站点(例如,氧化膜) |
性能规格
| 电影(年代) | 厚度 | 测量参数 | 精度(1σ) |
|---|---|---|---|
| 氧化/ Si | 0 - 1000 | t | 0.03 |
| 1000 - 500000 | t | 0.005% | |
| 1000年,一个 | t、n | 0.2 / 0.0001 | |
| 15000年,一个 | t、n | 0.5 / 0.0001 | |
| 150.000 | t、n | 1.5 / 0.00001 | |
| 氮化硅/硅 | 200 - 10000 | t | 0.02% |
| 500 - 10000 | t、n | 0.05% / 0.0005 | |
| 光刻胶/ Si | 200 - 10000 | t | 0.02% |
| 500 - 10000 | t、n | 0.05% / 0.0002 | |
| 多晶硅/氧化/ Si | 200 - 10000 | t聚t氧化 | 0.2 / 0.1 |
| 500 - 10000 | t聚t氧化 | 0.2 / 0.0005 |