原力微镜微博

扫描微波阻抗显微镜最新进步

听客座专家Nicholas Antoniou(PrimeNano公司)讲解SMIM技术的优缺点

获取对smIM模式应用的新洞察力及其BrukerAFM系统高级实施

网络研讨会探索雷竞技网页版数例案例研究说明 smm方法可如何应用到各种样本中,如1D2D材料、铁电、二电和半导体

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特征产品技术

讲演者

尼古拉斯·安东尼奥
VP产品管理PripenNano公司

Nicholas Antonio公司产品管理VP开发新产品和应用雷竞技网页版最近的工作中心围绕扫描显微镜改编过程控件和半导体和纳米材料生产计量手持B.S.m.Sc得克萨斯A&M大学电气工程拥有30多年半导体制造、纳米技术研究与产品管理经验并担任电子设备FA杂志主编

Ravi Chintala博士
应用科学家Brukerna

Ravi Chintala目前担任Bruker Nano表层应用科学家Ravi Chintala拥有十多年扫描探针显微镜研究经验,具体侧重于各种电工SPM技术开学前曾任PrienNano应用科学家Chintala曾是劳伦斯伯克利国家实验室的博士后研究员,博士Chintala获得IMEC博士学位(比利时)和密歇根理工大学MS博士学位(密歇根理工大学Houghton

Peter Dewolf博士

程序主管Bruker Nano

Peter De Wolf是Bruker纳米表层应用主管,领导一个国际应用科学家和实验室团队,分布在世界各地的不同地点,覆盖与扫描探针显微镜有关的所有应用从比利时IMec获取博士学位,研究开发二维载体半导体剖析新SPM方法,并拥有超过25年SPM经验30多本使用SPM电气定性出版物的作者和共同作者并开发数种新的SPM电容模式,包括扫描阻抗显微镜、TUNA隧道和DataCube方法