OPTIMUS 2

我们新的增强TKD解决方案基于现有轴上TKD无与伦比的性能，通过添加多种新的硬件选项、配件和软件功能。最重要的变化是OPTIMUS 2探测器头的发布，这是与丹麦DTU纳米实验室持续合作的结果。其全新的成像功能和改进的设计，结合新的创新软件功能，将实现:

• 原位实验的新分析能力
• 达到比以前更好的空间分辨率
• 卓越的数据质量和数据完整性
• 改善用户体验
• 对某些应用程序的生产力有重大提升
  

• OPTIMUS Vue屏幕，其中心有一个硅二极管，用于明亮场(BF)类成像
  
• 先进的合金对电子束的干扰最小化
• 在屏幕主动层结构中增加了新的薄膜，以提高信号质量
• 优化的屏幕框架设计，提高用户体验
• OPTIMUS 2将继续兼容标准TKD屏幕(没有中心二极管)

• 提高空间分辨率通过OPTIMUS Vue的中心二极管，在获得TKD图之前，该二极管为优化光束聚焦和散光设置提供了理想的条件。
• 近实时可视化在SEM中使用新的ESPRIT TRM特征进行时间分辨测量时，对电子透明样品进行原位实验。
• 提高数据完整性-高质量和高细节的bf图像是理想的输入数据到ESPRIT漂移校正功能使用的图像相关算法。由此产生的漂移校正精度的增益将特别有利于TKD地图，即使是只有几十纳米的光束或样本漂移也会在地图中产生可见的伪影。
• 生产力的提高- bf类图像可以使用新的ESPRIT MaxYield特征进行二值化，随后用作掩模，用于在稀疏样本(如纳米颗粒或纳米棒)上高效映射感兴趣的区域。
• 方便、高效、成功在新的ESPRIT FIL TKD(全浸没镜头TKD)功能的校准过程中，首次使用全浸没镜头模式(也称为超高分辨率(UHR)模式)对某些电子柱进行TKD测绘。