自动AFM计量

洞察力帽

在线测量结果在几分钟内,适用于蚀刻和CMP的技术开发和过程控制

用于蚀刻和CMP的无损计量

突出了

一个高性能分析器和AFM在紧凑的形式因素

Bruker的InSight CAP自动原子力分析器是专门为半导体制造商和供应商设计的CMP和蚀刻计量的组合平台。灵活的配置,支持晶圆尺寸从100毫米到300毫米,为广泛的终端应用提供精确测量。从高效的实验室到全自动晶圆厂,InSight CAP分析器可以优化配置为最具成本效益的计量解决方案。

< 0.5 nm
长期动态重现性
直接,稳定的在线计量的关键过程决策
事实上
自动化CMP计量的灵敏度
专用的盘子和侵蚀计量包无与伦比的过程控制和发展
< 20海里
平面度大于26mm
高精度后cmp平面度测量技术用于关键EUV光刻技术的开发和过程控制

特性

特性

在线测量结果在分钟,适用于蚀刻和CMP的技术开发和过程控制

在先进的技术节点上,多图案光刻技术对CMP提出了纳米级的工艺控制要求,以满足对焦深度的需求。InSight CAP是基于最新一代AFM扫描仪构建的,可提供改进的平面度,小于10纳米,超过65 μm X / Y扫描范围。该系统的NanoScope®V 64位AFM控制器提供了5倍更快的接合性能和5倍更快的调优,以提高生产力,所有这些都增强了可靠性。它的DT自适应扫描模式也有助于更快的扫描和改进计量。凭借其先进功能的组合,InSight CAP高分辨率剖面仪能够以埃级精度测量宏观冲刷和侵蚀。

灵活的配置,支持晶圆尺寸从100毫米到300毫米,为广泛的终端应用提供精确测量。从高效的实验室到全自动晶圆厂,InSight CAP分析器可以优化配置为最具成本效益的计量解决方案。

支持

支持

我们如何提供帮助?

Bruker与我们的客户合作解决实际应用问题。我们开发新一代技术,帮助客户选择正确的系统和配件。这种合作关系将通过培训和扩展服务继续下去,直到工具出售很久之后。

我们训练有素的支持工程师、应用科学家和主题专家团队完全致力于通过系统服务和升级,以及应用程序支持和培训,最大限度地提高您的生产力。

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