半导体解决方案

低温干洗

低温CO₂清洗

非常快速和环保,布鲁克的干燥低温CO2与传统清洁技术相比,清洁技术具有独特的优势。Bruker技术具有成本效益,无损,无废物和残渣,消除腐蚀和染色。Bruker提供了超过100个安装的低温CO工具2适用于大多数半导体市场领域的广泛应用的工艺设备。

为什么要考虑低温清洗

我们的客户受益于技术的许多固有方面以及布鲁克设备完善的专利功能。我们的冷冻干洗系统提供低成本的拥有:

  • 优异的清洁性能,采用我们的专利喷嘴设计
  • 经过验证的24/7生产性能高要求的应用
  • 高产量,确保高资金利用率
  • 紧凑的系统设计需要最小的洁净室空间
  • 在标准的湿法或等离子清洗工艺中没有发现收率的提高

力量的承诺

作为干法CO的领先创新者2布鲁克采用先进的干法清洗技术,为干法清洗的质量制定了标准。公司目前在低温CO的许多领域拥有超过25项美国和国际专利2清洗。这一创新已成为生产低温CO的标准2打扫了30多年。

我们位于佛罗里达州德尔雷海滩的最先进的应用实验室提供了一个位置,我们的全球客户群可以来开发新的清洁技术或优化他们的现有工艺。

了解更多关于低温CO2清洁技术可以解决您最棘手的污染问题,请联系我们欲了解更多信息或安排演示。

支持

我们如何提供帮助?

Bruker与我们的客户合作解决实际应用问题。我们开发新一代技术,帮助客户选择正确的系统和配件。这种合作关系将通过培训和扩展服务继续下去,直到工具出售很久之后。

我们训练有素的支持工程师、应用科学家和主题专家团队完全致力于通过系统服务和升级,以及应用程序支持和培训,最大限度地提高您的生产力。

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