极端的光刻清洁
第二代光掩模干洗系统
生产公司₂低温粒子去除
突出了
极端的光刻清洁(EL-C)
EL-C®系统用于各种各样的应用程序包括前端和后端删除粒子沉积在生产和处理,特别是粒子小蝰蛇从其他设备。EL-C过程干和污染的自由。面具可以根据需要经常清洗软粒子去除效率下降100%到50 nm大小。
公司₂干洗
production-proven过程
先进技术的节点上操作的面具在全球多个站点包括晶圆厂和面具商店
完整的正面和背面
清洁光学和EUV掩
几何图形特性有纵横比高达3:1
没有损坏
超过50 + CO₂清洁周期
没有损害脆弱的结构或SRAFs≥40 nm;没有传输或反射效果;没有吸收的伤害
100%
软粒子去除效率
特性
低温气溶胶光掩模清洗支持完整的面具干净
未知的粒子污染在先进的光掩模制造和掩模处理在晶圆厂和保持一致的问题。掩模材料变得更加雷竞技网页版复杂和几何图形继续萎缩,打扫的更有效和损害自由技术变得越来越重要。许多老一辈的,建立清洁技术变得不那么有效的软粒子去除和已成为功能损伤和面具表面污染的来源。几年前,力量引入了一个新的面具清洁替代形式的极端光刻清洁(EL-C®)产品线的面具低温干燥清洁系统。的力量EL-C®系统现在在生产操作在多个商店和面具的面具全球晶圆厂的管理功能。
完全自动或手工加载操作
- SMIF &开销跟踪兼容;RFID / OCR /条形码阅读器
- 秒/宝石兼容
- 操作方便;非常用户友好的图形用户界面
应用程序
多个面具清理应用程序
- EUV &光学前端清洗
- EUV &光后清洗
- 完整的面具清洁
- 当地(现货)清洁
- Pre-repair清洁(区分“软”“硬”的经文缺陷)
- Post-repair清洁(nanomachining碎片)
- 持续的粒子清洁
- 删除小蝰蛇从其他设备
- 面具空白清洁
支持
支持
我们如何帮助?
力量合作伙伴与客户解决实际应用问题。我们开发新一代技术,帮助客户选择合适的系统及配件。这种伙伴关系继续通过培训和扩展服务,很久以后销售的工具。
我们的训练有素的团队的支持工程师,科学家和应用主题专家是完全致力于最大化工作效率与系统服务和升级,以及应用程序的支持和培训。