OPTIMUS 2

我们新的增强TKD解决方案通过增加多种新的硬件选项、配件和软件功能，建立在现有的轴上TKD无与伦比的性能基础上。最重要的变化是OPTIMUS 2探测器头的发布，这是与丹麦DTU纳米实验室持续合作的结果。其新的成像能力和改进的设计与新的和创新的软件功能相结合，将使:

• 新的原位实验分析能力
• 达到比以前更好的空间分辨率
• 优越的数据质量和数据完整性
• 改善用户体验
• 对某些应用程序的生产率进行了重大提升
  

• OPTIMUS Vue屏幕，其中心有一个硅二极管，用于亮场(BF)成像
  
• 减少电子束干扰的先进合金
• 在屏幕中增设新的薄膜有源层结构，以提高信号质量
• 优化屏幕框架设计，提高用户体验
• OPTIMUS 2将继续兼容标准TKD屏幕(没有中心二极管)

• 提高空间分辨率通过OPTIMUS Vue的中心二极管，在获得TKD图之前，为优化光束聚焦和散光设置提供了理想的条件。
• 近实时可视化利用新的ESPRIT TRM特征进行时间分辨测量，在SEM中进行原位实验期间，对电子透明样品进行了分析。
• 提高数据完整性-高质量和高细节bf类图像是ESPRIT漂移校正功能使用的图像相关算法的理想输入数据。由此产生的漂移校正精度的提高将对TKD地图特别有益，在TKD地图中，即使只有几十纳米的光束或样品漂移也会在地图中产生可见的伪影。
• 生产力的提高-类bf图像可以使用新的ESPRIT MaxYield特征进行二值化，随后用作掩模，用于在稀疏样本(如纳米颗粒或纳米棒)上有效地映射感兴趣的区域。
• 方便、高效、成功在新的ESPRIT FIL TKD(全浸入式透镜TKD)功能的校准过程中，有史以来第一次使用全浸入式透镜模式(也称为超高分辨率(UHR)模式)对某些电子柱进行TKD映射。