维IconIR300
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Dimension IconIR300™大样本纳米ir系统为半导体应用提供高速、高精度的纳米级表征，具有无与伦比的性能、样本量和材料类型的灵活性。通过其专有的光热红外光谱和纳米级AFM属性映射功能的结合，IconIR300能够在最广泛的晶圆和掩模样品上实现自动化晶圆检测和缺陷识别。该系统极大地扩展了AFM-IR技术在半导体行业的应用，超出了传统技术的范围。
建立在开创性的大样本建筑尺寸IconIR系统， IconIR300提供相关的显微镜和化学成像，以及增强的分辨率和灵敏度。该系统集成了自动化晶圆处理和先进的数据收集/分析软件，可以节省更多的时间和成本，提高生产效率。
Caracteristicas
半导体工业的卓越纳米尺度红外光谱和化学成像
只有维数IconIR300系统提供:
- 200mm和300mm晶圆的全片无损测量;
- 利用与FTIR库直接相关的数据，明确识别半导体晶圆和掩模上的有机和无机纳米污染物;
- 无损步高测量和纳米级材料性能映射;而且
- 自动化的，基于配方的测量和KLARF文件支持用户友好的访问全面的数据。
200mm和300mm晶圆的整片测量
我们拥有专利的、独特的AFM-IR模式套件和专有的PeakForce tap®属性映射模式，以及IconIR300的大样品架构，为最广泛的半导体应用提供了最终的样品灵活性。IconIR300可在各种厚度和材料类型下提供直径达300毫米的全晶片样品测量，包括:
- 有机和无机样品;
- 有图案的晶片;
- 裸晶片;
- 光掩模;而且
- 数据存储介质晶片。
此外，表面敏感AFM-IR模式使IconIR300能够为沉积在半导体材料上的聚合物薄膜提供独特、可靠的表面敏感化学测量。雷竞技网页版
半导体应用中最高性能的纳米红外光谱
Bruker是光热afm - ir纳米红外光谱技术的创新者，这是纳米红外领域的首选技术。
IconIR300提供:
- 高精度，丰富，详细的光谱与FT-IR相关，实现薄污染物的纳米级测量;
- 多种先进的操作模式，支持工业和学术用户对各种样品的测量;
- 高性能的AFM-IR光谱，半导体应用中领先的纳米ir模式;而且
- 聚合物薄膜的可靠表面敏感化学测量。
晶圆和掩模上的最高分辨率化学成像
Dimension IconIR300的行业领先的AFM性能和Bruker的专利tap AFM- ir成像共同提高了我们纳米ir技术的空间分辨率和样品可达性。
IconIR300提供:
- <10nm化学空间分辨率，可对各种样品类型进行成像，包括软有机和无机污染物;
- 一致、可靠、高质量的数据;而且
- AFM-IR技术用于去除任何和所有机械伪影，确保只收集真实的化学成分。
纳米污染物的先进自动化识别
IconIR300配备了我们专有的AutoMET®软件套件，可实现多个级别的自动化，对各种样品类型进行实时和离线的无损AFM测量。
主要自动化功能包括:
- 台阶高度调查与纳米级材料属性映射。
- 光学和AFM图像模式识别;
- Tip-centering;
- 全晶片或网格映射支持;
- 图像放置精度在几十纳米以内;
- 全面、简单的食谱写作;而且
- KLARF文件导入功能，支持纳米红外自动化功能。
这些功能，加上具有高分辨率红外光谱的纳米级化学表征，使学术和工业用户能够克服传统半导体材料缺陷识别的限制。雷竞技网页版
