FilmTek 2000 SE
多通道台式计量未成形的薄的厚的电影
洛马斯destacado
FilmTek 2000 SE
的FilmTek™2000 SE台式光谱椭圆计/反射计扩展光谱椭圆计的多功能性和反射计技术,快速、准确、可重复的测量范围更大的未成形的薄的厚的电影。
我们先进的旋转补偿器椭圆计设计结合DUV多角度偏振反射计,这多通道测量系统可以收集ellipsometric和多角度反射DUV近红外光谱在几乎所有的数据未成形的半透明的电影(< 1 150µm厚),达到增强敏感性和折射率测量的示例的兼容性。多通道设计和DUV反射测量功能尤其适用于描述超薄层,使其能够提供快速,准确,同时测量的厚度、折射率和消光系数更大的灵敏度和重现性比椭圆计和反射计。
FilmTek 2000 SE扩展样本范围包括电影和多层膜用于光电材料、计算机磁盘,和镀膜玻璃。雷竞技网页版配备可选的广义椭圆对称技术时,其样本的兼容性还包括任意排列,光学单轴样品或光学双轴样本。这使得FilmTek 2000 SE理想的多功能解决方案在学术和研发的设置。
增强
敏感性和样本范围
使更精确和可重复的测量折射率。
扩展
DUV-NIR光谱范围
使反射数据的收集来自电影更具挑战性的材料和结构。雷竞技网页版
多通道
椭圆对称/反射计设计
提供更多的数据的精度和可重复性更高比技术本身,尤其是对折射率测量。
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Caracteristicas
测量功能
可以同时测定:
- 多个层厚度
- 的折射指数(n(λ))
- 灭绝(吸收)系数(k(λ))
- 能量带隙(如)
- 成分(例如,% SiGex通用电气,% GaxIn1-xAs Ga, % AlxGa1-xAs Al,等等)。
- 表面粗糙度
- 组成部分,空隙率
- 结晶度/无定形化(例如,文章或GeSbTe电影)
- 电影梯度
系统组件
标准:
- 光谱椭圆对称旋转补偿器设计(300 nm - 1700 nm)
- 多角度偏振光谱反射(240 nm - 1700 nm)
- 独立测量薄膜厚度和折射率
- 自动化与自动对焦
- 适合测量超薄电影(0.03对原生氧化可重复性)
- 先进材料建模软件
- 力量的广义物质模型与先进的全局优化算法
可选:
- 广义椭圆光度法(4×4矩阵推广方法)对各向异性测量(nx、纽约、新西兰)
Aplicaciones
典型应用领域
几乎所有的半透明的电影不等厚度小于1的大约150µm可以测量精度高。典型的应用领域包括:
- 半导体和绝缘材料雷竞技网页版
- 领导/ OLED
- 多层光学薄膜
- 光学增透膜
- 光电材料雷竞技网页版
- 电脑磁盘
- 镀膜玻璃
- 薄金属
- 太阳能电池
与灵活的硬件和软件,可以很容易地修改以满足独特的客户需求,尤其是在学术和研发环境。
Especificaciones
技术规格
| 膜厚度范围 | 0到150µm |
|---|---|
| 膜厚度精度 | 100±1.0 NIST可追踪的标准氧化1µm |
| 光谱范围 | 240 nm - 1700 nm (240 nm - 1000 nm标准) |
| 测量光斑大小 | 3毫米 |
| 样本大小 | 2毫米- 300毫米(150毫米标准) |
| 光谱分辨率 | 0.3 - 2 nm |
| 光源 | 监管deuterium-halogen灯(2000小时寿命) |
| 探测器类型 | 2048像素索尼冷却滨松InGaAs CCD线阵CCD阵列/ 512像素阵列(NIR) |
| 自动化与自动对焦 | 标准是300毫米(200毫米) |
| 电脑 | 多核处理器操作系统Windows™10 |
| 测量时间 | ~ 2秒/站点(例如,氧化膜) |
性能规格
| 电影(年代) | 厚度 | 测量参数 | 精度(1σ) |
|---|---|---|---|
| 氧化/ Si | 0 - 1000 | t | 0.03 |
| 1000 - 500000 | t | 0.005% | |
| 1000年,一个 | t、n | 0.2 / 0.0001 | |
| 15000年,一个 | t、n | 0.5 / 0.0001 | |
| 150.000 | t、n | 1.5 / 0.00001 | |
| 氮化硅/硅 | 200 - 10000 | t | 0.02% |
| 500 - 10000 | t、n | 0.05% / 0.0005 | |
| 光刻胶/ Si | 200 - 10000 | t | 0.02% |
| 500 - 10000 | t、n | 0.05% / 0.0002 | |
| 多晶硅/氧化/ Si | 200 - 10000 | t聚t氧化 | 0.2 / 0.1 |
| 500 - 10000 | t聚t氧化 | 0.2 / 0.0005 |