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多角度反射计/椭圆对称系统
行业领先的测量具有挑战性的超薄薄膜和多层膜的性能比其他非接触式方法以100倍的性能优势
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光谱反射计
加快膜厚度和光学常数测量适合现场生产质量评估,特别是在开发和生产环境和厚膜半导体晶片
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光谱椭圆光度法
高度敏感的、可重复的测量单层薄膜和小多层结构,能够描述厚度和光学性质甚至在层不到一个单原子层厚
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Reflection-Transmission分光光度法
完全集成的系统结合反射、透射和可选ellipsometric和偏振测定数据测量吸收薄膜沉积在透明基板
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膜厚度和RI半计量
专业薄膜晶片和CD计量,计量系统设计用于满足需求没有可测量的常规设备
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