维IconIR300
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Dimension IconIR300™大样品纳米红外系统为半导体应用提供高速、高精度的纳米级表征，具有无与伦比的能力、样品尺寸和材料类型灵活性。通过其专有的光热红外光谱和纳米级AFM属性映射功能的结合，IconIR300可以在最广泛的晶圆和掩模样品上实现自动晶圆检测和缺陷识别。该系统大大扩展了AFM-IR技术在半导体工业领域的应用，超越了传统技术的范围。
基于开创性的大样本架构IconIR系统， IconIR300提供相关的显微镜和化学成像，以及增强的分辨率和灵敏度。该系统集成了自动化晶圆处理和先进的数据收集/分析软件，可以节省更多的时间和成本，提高生产效率。
的特性
半导体工业优越的纳米红外光谱和化学成像
只有Dimension IconIR300系统提供:
- 整片，无损测量200mm和300mm晶圆;
- 利用与FTIR文库直接相关的数据明确识别半导体晶圆和光掩膜上的有机和无机纳米污染物;
- 非破坏性步高测量与纳米尺度材料性质映射和
- 自动化，基于配方的测量和KLARF文件支持用户友好访问全面的数据。
200mm和300mm晶圆的整片测量
我们获得专利的独特的AFM-IR模式套件和专有的PeakForce Tapping®属性映射模式，以及IconIR300的大样本架构，为最广泛的半导体应用提供了最终的样本灵活性。IconIR300提供直径达300毫米的样品整片测量，厚度和材料类型范围广泛，包括:
- 有机和无机样品;
- 有图案的晶片;
- 裸晶片;
- 光掩模;和
- 数据存储介质片。
此外，表面敏感AFM-IR模式使IconIR300能够提供沉积在半导体材料上的聚合物薄膜的独特，可靠的表面敏感化学测量。雷竞技网页版
半导体应用的最高性能纳米红外光谱
布鲁克是光热afm - ir纳米红外光谱的创新者，这是纳米红外领域的首选技术。
IconIR300提供:
- 高精度、丰富、详细的光谱与FT-IR相关，实现薄污染物的纳米级测量;
- 各种先进的操作模式，支持广泛的工业和学术用户的样品测量;
- 高性能AFM-IR光谱，半导体应用中领先的纳米红外模式;和
- 可靠的表面敏感化学测量聚合物薄膜。
在晶圆片和光掩膜上的最高分辨率化学成像
Dimension IconIR300业界领先的AFM性能和布鲁克专利的tap AFM- ir成像共同增强了我们纳米红外技术的空间分辨率和样品可及性。
IconIR300提供:
- <10nm的化学空间分辨率，适用于广泛的样品类型成像，包括软有机和无机污染物;
- 一致、可靠、高质量的数据;和
- AFM-IR技术用于去除任何和所有机械工件，确保只收集真实的化学成分。
纳米污染物识别的先进自动化
IconIR300配备了我们专有的AutoMET®软件套件，可在实时和离线的多种样品类型上实现多级自动化的非破坏性AFM测量。
关键的自动化功能包括:
- 台阶高度研究以及纳米尺度材料属性映射。
- 光学和AFM图像模式识别;
- Tip-centering;
- 全晶圆或网格映射支持;
- 图像放置精度在几十纳米以内;
- 全面、简单的食谱写作;和
- KLARF文件导入功能，支持nanoIR自动化功能。
这些能力，加上具有高分辨率红外光谱的纳米级化学表征，使学术和工业用户能够克服传统半导体材料缺陷识别的局限性。雷竞技网页版
