洞察力帽
内联计量结果在几分钟内,适合技术开发和过程控制腐蚀和CMP
非破坏性测量腐蚀和CMP
做marquants
一个高性能的分析器和AFM在一个紧凑的形式
力量的洞见帽自动原子力分析器是专门设计为一个综合平台CMP和腐蚀测量半导体制造商和供应商。灵活的配置来支持从100毫米到300毫米晶圆尺寸使精密测量的范围广泛的应用程序结束。从高产的实验室全自动晶圆厂的洞察力帽分析器可以优化配置最具成本效益的计量解决方案。
< 0.5海里
长期动态再现性
直接、稳定在线计量关键流程的决策
事实上
灵敏度自动CMP计量
专用碟形和侵蚀计量方案无与伦比的过程控制和发展
< 20海里
分析平面度超过26毫米
高精度post-CMP平面化计量针对关键EUV光刻技术开发和过程控制
的特性
内联计量结果在几分钟内,适合技术开发和过程控制腐蚀和CMP
在先进的技术节点,多重图像光刻技术将纳米级CMP过程控制要求满足景深的需要。洞察力帽是建立在最新一代AFM扫描提供改善平面度,小于10纳米,在65μm X / Y扫描范围。系统的毫微秒示波器®V 64位AFM控制器提供5 x更快的接触性能和快5倍调优对于提高生产率,与增强的可靠性。其DT自适应扫描模式也会导致更快的扫描和改进计量。高级功能的组合,洞察帽高分辨率分析器允许angstrom-level精密测量在宏观碟形和侵蚀。
灵活的配置来支持从100毫米到300毫米晶圆尺寸使精密测量的范围广泛的应用程序结束。从高产的实验室全自动晶圆厂的洞察力帽分析器可以优化配置最具成本效益的计量解决方案。
支持
支持
我们如何帮助?
力量合作伙伴与客户解决实际应用问题。我们开发新一代技术,帮助客户选择合适的系统及配件。这种伙伴关系继续通过培训和扩展服务,很久以后销售的工具。
我们的训练有素的团队的支持工程师,科学家和应用主题专家是完全致力于最大化工作效率与系统服务和升级,以及应用程序的支持和培训。