FilmTek 2000
Micro-spot大小台式反射计为花纹薄非常厚膜的应用程序需要一个很小的光斑大小
FilmTek 2000
大小的FilmTek™2000台式micro-spot台式反射计提供了无与伦比的多功能性和性能,满足需求的应用程序需要一个很小的光斑大小的电影。
这个系统允许测量位置尺寸小2µm薄和很厚的电影没有信号退化和光学工件固有传统电影计量系统。与这些系统,FilmTek 2000达到持续高信号保真度在小-和micro-spot测量通过加入我们的专利低倍物镜光学设计近平行光束。这个设计——我们的“M”系列仪器的特点使FilmTek 2000能够提供更大的准确性和可靠性比传统的高功率应用基于目标的仪器具有挑战性的样品和要求micro-spot尺寸测量。
选项是可用的优化FilmTek 2000设计的完全自动化的成像进行临界尺寸(CD)测量的样品,同时允许CD和膜厚度测量。
非常厚膜
样本的兼容性
可以准确表征样品的外部竞争系统的可测量的厚度范围。
Micro-spot
光学设计
t 2μm实现小尺度测量位置。
多才多艺的
光谱反射计
使测量在各种电影类型和厚度在许多不同的应用领域。
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测量功能
可以同时测定:
- 多个层厚度
- 的折射指数(n(λ))
- 灭绝(吸收)系数(k(λ))
- 能量带隙(如)
- 临界尺寸(CD)测量
系统组件
标准:
- 反射光谱测量
- 5 nm 350µm膜厚度范围
- 2µm光斑大小(5×10µm标准)
- 自动化与自动对焦
- 相机成像测量位置
- 模式识别
- 先进材料建模软件
- 力量的广义物质模型与先进的全局优化算法
可选:
- 自动晶片处理
- 秒/宝石
典型应用领域
典型的应用领域包括:
- 晶片/ CD计量
- 化合物半导体
- 数据存储
- 平板显示器
灵活的软件,可以很容易地修改以满足独特的客户需求研发和生产环境。
技术规格
| 膜厚度范围 | 5 nm 350µm (5 nm 150µm标准) |
|---|---|
| 膜厚度精度 | 1000±1.5 NIST可追踪的标准氧化1µm |
| 光谱范围 | 380 nm - 1700 nm (380 nm - 1000 nm标准) |
| 测量光斑大小 | 2µm (5 x10µm标准10倍的目标) |
| 样本大小 | 2毫米- 300毫米(150毫米标准) |
| 光谱分辨率 | 0.3 - 2海里 |
| 光源 | 监管的卤素灯(2000小时寿命) |
| 探测器类型 | 2048像素索尼冷却滨松InGaAs CCD线阵CCD阵列/ 512像素阵列(NIR) |
| 电脑 | 多核处理器操作系统Windows™10 |
| 测量时间 | < 1秒/站点(例如,氧化膜) |
性能规格
| 电影(年代) | 厚度 | 测量参数 | 精度(1σ) |
|---|---|---|---|
| 氧化/ Si | 500 - 1000纳米 | t | 0.025纳米 |
| 1 - 150µm | t | 0.005% |