南弗朗西斯科
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2016年7月12日
雷竞技官方网站PR新闻线/-SEMICON西
布鲁克
多重领先逻辑和铸造厂
布鲁克
VX7300LSIX射线计量系统支持斜坡开发10纳米和7/5纳米技术节点上头VX7300LSI工具装有大小点测量能力,用于最先进逻辑设备内生产过程监控雷竞技网页版工具由制造商选择,先综合评价前端各种应用极具挑战性测量方法,包括Si和SRB上下文分析Si-SERB、FinFETs和FDSOI、III-V以及其他材料,如高-k/金属门特征描述
由行业引导半导体客户选择为高级上表处理提供无与伦比的计量法
大卫五世罗西
Bruker半导体分会长增强法基X射线计量学位置
布鲁克
2015年获取Jordan Valley半导体
行业向10米7米5米时, 提出了新的计量要求和挑战
Isaac Mazor
副总裁兼总经理
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X光半导体业务义大利VX7300LSI系统是各种应用的理想工具,提供在开发制造过程期间克服多项挑战所需的计量学广度X射线特征和计量技术-HRXRD、XRR和各种XRD几何-并同时优化毛毯和模式瓦
关于VX7300LSI系统化
上头VX7300LSIs-V复合半导体Si等高级逻辑和多模应用系统可产生X射线度量系统,可同时用于fab过程开发与生产监控雷竞技网页版工具支持各种X射线计量模式,为各种材料和结构提供解决方案可使用大小点HRXRD测量单层和多层堆栈组成、厚度和松绑并用XRR和XRD频道VX7300LSI还可以提供广度薄膜厚密度信息,以及单晶度、粒度和相位多晶片等独特微结构信息与光学或光谱工具不同,HRXRD(高分辨率X射线分解)和XRR(X射线反射法)是第一原理技术,不标定即交付精确结果
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