雷竞技官方网站BILLERICA Mas.,2019年4月3日/PRNewswire/-BrukerCorporation今天宣布它已经获取RAVLC半导体遮罩修复和清洗业务,RAVLC是纳米和激光摄影mask修复设备的主要提供者。2018日历年所得企业盈利并收入约2 500万美元事务的财务细节没有披露,企业现已成为Bruker半导体计量师分局的一部分
后台企业将继续在佛罗里达州Derray海滩运营,围绕全套纳米和激光光雾修复产品以及CO2低温清洗技术用于摄影mask和wifer应用布鲁克在半导体摄影mask和wafer计量器自动化原子显微镜Bruker半导体剖面提供非匹配的纳米遮罩修复和清洗解决方案,EUV高级节点和多模式平面图计量法
模式缺陷控制是高端光片制作中最关键的问题 特征尺寸递减和面罩复杂性增加 ” Barry Hopkins说 RAVE首席执行官新手m-VI光mask修复系统是我们第六代高精度纳米图学技术,利用AFM的长处修复10和7nm节点口罩Bruker无比AFM专业知识和全球销售与服务拓展, 以下一步支持半导体行业技术路径图,
Reve是当前复杂面罩修复和清洗前导工具, 包括多模式193Nm面罩和向EUV过渡,Rossi,Bruker半导体分队长RAVE核心纳米学技术与Bruker自动化AFM自有成像和探针控制技术相结合,使我们有更大范围的能力支持半导体客户的进步
关于RAVELC
RAVELC全球提供半导体和摄影mask行业高级流程解决方案自2000年以来,RAVE被公认为顶级生产设备提供方,用于遮罩修复和清洗ARVE系统作为纳米机技术关键提供者,以非对称成像、边缘定位和Z深度修复控制为名声。 ARVE是私有企业,总部设在佛罗里达Derray海滩并维护亚洲、欧洲和美国销售服务局
关于Bruker公司Nasdaq:BRKR
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