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后缀薄膜通常厚度为Nm,使用时常使用ALD(Atomic层沉积)和单晶体结构
偏薄薄膜构成现代半导体技术基础,处理时细微细微变化导致设备性能突变精密胶片属性测量能力至关重要与XRD对齐空间映射技术是确定薄膜结构属性首选技术,因为薄膜既能测量垂直和侧波分量力性能,构件性能和域特效性能
