MATRIX-F二世
プロセスの常時監視
ハ▪▪ラ▪▪ト
矩阵- f iiプロセス分光計
光学分光法は，今日，オンラ。ファバカップルドプロブは，時間遅れなしにプロセスを直接観察することを可能にします。
MATRIX-F II FT-NIR分光計は,プロセス反応器やパイプラインでの直接測定を可能にし,プロセスのより良い理解と制御につながります。その革新的な技術は，一貫した高品質の結果，少ないダウンタaaplム，直接的なメソッドの移行を提供します。ブルカ，のプロセス分光計はすべて，堅牢性，長期安定性，低メンテナンスコストを特徴としています。
化学,石油化学,ポリマー産業,医薬品製造プロセス,食品・飼料製造の分野における幾多もの設置実績が,私たちの経験を証明しています。
Ft-nirプロセスモニタリング
現在,多くのメーカーでは,最終製品の高品質化だけでなく,研究室の分析技術を工場に導入することによる製造効率の向上に努めています。製造工程をより厳格に管理することで,原材料の使用を最適化し,規格外の製品の生産を減らしたり回避したりすることが可能になります。これにより，再処理や廃棄にかかるコストを削減することが可能となります。
ft-nirによるリアルタaapl . exeムのオンラaapl . exeン分析の利点は既に十分に確立されています。しかしながら,従来の分光計は,プロセスの近くにしか設置できず,急激な温度変化や塵埃にさらされる厳しい環境への設置が避けられませんでした。さらに，装置はしばしば防爆エリアやアクセスの難しい場所に設置する必要があります。
光ファイバー技術を利用することで,MATRIX-F IIを計器室などに設置したまま,装置本体の設置が難しい測定ポイントにも光ファイバープローブによりアクセスすることができます。ブルカ，オプティクスは，様々なオンラ，ン分析の要求に応える完全なソリュ，ションを提供しています。
一般的なプロセス制御アプリケーションには,化学反応の直接モニタリング,中間製品や最終製品の品質モニタリングなどがあります。
- プロセスリアクタやパプラン，ベルトコンベア上での直接測定
- 長距離の遠隔測定
- プロセスの理解を深めることによる効率的な制御
様々な産業における,混合プロセスの均一性,化合物の濃度,重合プロセスの状態を決定するための理想的なツールです。
幅広い実用性
MATRIX-F IIシステムは,光ファイバー技術により,1台の装置で接触測定と非接触測定ができる唯一のFT-NIR分光装置です。
光ファバプロブ:測定部に取り付けるプローブは,一般的な拡散反射プローブ,透過反射プローブ,様々な光路長の透過プローブに加え,プロセスフローセルやパイロットプラントアセンブリから選定いただけます。材質も豊富に取り揃えており，ステンレス鋼やハステロ，など，様々なニ，ズに対応可能です。
非接触測定用ヘッド:非接触測定用ヘッドには検出器とサンプル照射のためのタングステンランプ光源が装備されています。サンプルからの拡散反射光は，光ファバケブルを経由してmatrix-fに導かれます。非接触か遠隔での測定が可能なため，様々な新しい用途が広がります。さらに1台のMATRIX-F发射またはMATRIX-F双に,最大6台のヘッドを同時接続することも可能です。
MATRIX-F II:
フローセルや一般的なプローブ(固体・液体用)を,光ファイバー接続で使用可能な標準バージョン
MATRIX-F II发射:
非接触測定用ヘッドとの接続に最適化された，matrix-f iiの非接触測定専用バジョン
MATRIX-F II双工:
一般的なプローブと,非接触測定用ヘッドの両方を光ファイバー接続で使用できるMATRIX-F IIの拡張バージョン
矩阵- f防爆バ，ジョン
Matrix-fは，以下の規格に準拠した，atex認定の防爆バ，ジョンも用意されています。
- II 2G Ex px II T6 Gb
- II (1) G [Ex op is T4 Ga
特長
最先端の技術
MATRIX-F IIはプロセス用途の要求を満たす,プロセスアプリケーション専用の近赤外分光計です。
コンパクトな筐体に最先端の光学系を搭載したこの装置は，卓越した感度と安定性を備えています。革新的な設計により,高精度な分析結果,ダウンタイムの短縮,分析メソッドの直接的な移設を実現しています。また，他の装置では対応できない新たなアプリケ，ションの可能性を提供します。業界標準の通信プロトコルを完全にサポ，トしているので，システムへの統合も簡単です。
分析メソッドの開発段階では装置を実験室に設置し,その後プロセスアプリケーションにダイレクトに移行することができます。矩阵- f iiの筐体は，nema 5/ ip65の防塵防水保護等級に対応しています。そのまま現場に設置することも,温調機能付きキャビネット内の標準的な19インチラックに設置することも可能です。矩阵- f ii本体には，6ポトの光ファバマルチプレクサを取り付け可能です。
- 正確な▪▪ンラ▪▪ン測定結果を数秒で出力
- 複数の項目を同時に分析
- 非破壊分析
- 6ポトマルチプレクサを内蔵
- 手間のかからない分析メソッドの移設
- 頑丈なデザ@ @ン
- 干渉計の可動部および半導体レ，ザ，に10年間保証付き
- サネット接続と業界標準の通信プロトコルに対応
手間のかからないメンテナンス
矩阵- f iiは，信頼性が高く，簡単にメンテナンスできるように設計されています。アラメント済みのマウントに取り付けられている消耗品は，ユザ自身で交換可能です。長寿命の近红外光谱光源と最新の半導体レーザを採用することで,メンテナンス頻度と所有コストを大幅に削減します。メンテナンス作業が容易なため，製造工程の中断を最小限に抑えることができます。
システムバリデ，ション
矩阵- f iiには，装置性能のテストに使用される自動フィルタ，ホ。ホ。一連の装置性能のテストは，ovp (opusバリデ，ションプログラム)により実行されます。テストでは，装置が仕様の範囲内で動作することを保証するための評価が実施されます。一連の装置性能テストは，医薬品業界における分析業務に使用するための必要条件の一になっています。
接続性
之外ソフトウェアは,4 - 20毫安,Modbus, Profibus DP, OPCなど標準通信インターフェースとプロトコルに対応し,作品を任意のプロセス制御環境に統合できる業界標準インターフェース(OPC)に対応しています。
詳細
資料ダウンロ，ド
当社のft-nir分析装置とソリュションの詳細にいては，こらから資料をご確認頂けます。
サポト
アプリケ，ションサポ，ト
力量光学は計測器とアプリケーションの詳細なノウる深い情報を持つ専門家の科学者やエンジニアが配置されています。当社の製品スペシャリストは，リモ，トまたはラボでのメソッド開発を支援します。
さらに、力量光学は近红外光谱分光法の世界への参入を容易にする,すぐに使用できるキャリブレーションの配列を提供しています。
サ，ビスとトレ，ニング
ブルカー光学分光計は,信頼性の高いトラブルフリー操作の年を提供するように設計されていますが,問題が発生した場合,世界中の力量企業や代表者のネットワークは,迅速にあなたのニーズに対応する準備ができています。プロフェッショナルな設備と高いサービスのポスト・デリバリー・サービスは,力量光学が各顧客に対して行うコミットメントです。さまざまなサービスコントラクトパッケージに加えて,リモート診断機能を使用して包括的なサポートを受け付けています。
お客様の定期的なトレーニング以外にも,社内での専用セミナーや現地サポートを,ニーズに合わせて手配できます。
