维IconIR300
高性能纳米半导体应用红外光谱和成像
ハイライト
维IconIR300
维IconIR300™大样本nanoIR系统提供高速、高精度纳米级特征对于半导体应用程序,具有无与伦比的能力,样本大小和材料类型的灵活性。通过其专有的光热光谱分析红外光谱学和纳米AFM属性映射功能,IconIR300使自动晶片检查和缺陷识别广泛的晶片,光掩模的样品。AFM-IR系统大大扩展了应用程序的技术,半导体行业领域的传统技术。
建立在的开创性的大样本架构维IconIR系统,IconIR300提供相关显微镜和化学成像,以及增强的分辨率和灵敏度。与自动化集成晶片处理和先进的数据采集/分析软件,该系统允许更多的时间,节省成本和生产效率。
整片
纳米化学和材料性能表征
结合红外光谱和AFM属性映射高度精确、无损测量的200毫米和300毫米晶圆。
明确的
有机/无机nano-contaminants的识别
提高半导体晶片的光掩模质量和光热光谱分析AFM-IR数据直接与红外光谱库。
自动化
食谱测量
提供用户友好的全面数据访问和KLARF文件支持。
特長
优越的纳米红外光谱和化学成像半导体行业
只有维IconIR300系统提供:
- 整片、非破坏性测量200毫米和300毫米晶圆;
- 明确识别的有机和无机nano-contaminants在半导体晶片上,光掩模的数据直接相关的红外光谱库;
- 非破坏性阶梯高度测量和纳米材料属性映射;和
- 测量自动化,食谱和KLARF文件对用户友好的获得全面的数据支持。
整片测量200毫米和300毫米晶圆
我们的专利,独特的AFM-IR套件模式和自营PeakForce攻®属性映射模式,连同IconIR300的大样本架构,提供最广泛的半导体最终样品的灵活性应用程序。IconIR300提供整片测量样品直径300毫米的范围广泛的厚度和材料类型,包括:
- 有机和无机样品;
- 有图案的晶片;
- 裸晶片;
- 光掩模;和
- 数据存储媒体的晶片。
此外,表面敏感AFM-IR模式使IconIR300提供独特、可靠surface-sensitive化学测量高分子薄膜沉积在半导体材料。雷竞技网页版
维度的内部视图IconIR300系统在300 mm晶圆缺陷检查
最高性能的纳米级半导体应用红外光谱
高品质resonance-enhanced AFM-IR光谱PS-LDPE聚合物混合收集在不同的网站,说明材料的高度敏感性和更深的了解纳米材料特性
力量是光热光谱分析的创新者AFM-IR-based nanoIR光谱学,nanoIR社区的首选技术。
维IconIR300交付:
- 高度准确、丰富、详细的光谱与红外光谱相关性,实现纳米级测量薄污染物;
- 各种各样的先进运作模式支持广泛的测量样品的工业和学术用户;
- 最高性能AFM-IR光谱学、领先的半导体nanoIR模式应用程序;和
- 可靠surface-sensitive化学测量高分子薄膜。
最高分辨率化学成像光掩模和硅片
维IconIR300的行业领先的性能和力量的专利利用AFM AFM-IR成像空间分辨率和样本一起提高我们的nanoIR技术。
维IconIR300提供:
- 小于10纳米化学空间分辨率成像在广泛的样本类型,包括柔软的有机和无机污染物;
- 一致、可靠和高质量的数据;和
- AFM-IR技术去除所有机械构件,确保只有真正的化学成分是收集。
高分辨率的化学成像PS-b-PMMA嵌段共聚物在攻AFM-IR模式显示样本地形(一个);红外图像1730 (b);和1492 cm - 1 (c)强调PMMA、PS。面板(b)中的黄色箭头表示化学分辨率小于10纳米。叠加的图像(d)捕捉构成地图。
先进自动化Nano-Contaminants的识别
配备我们的专有AutoMET®软件套件,IconIR300使多个级别的自动化无损AFM测量在一个广泛的样本类型在实时和离线。
关键自动化功能包括:
- 阶梯高度调查以及纳米材料属性映射。
- 光学和AFM图像模式识别;
- Tip-centering;
- 整片或网格映射支持;
- 在几十个纳米Image-placement精度;
- 全面、简单的食谱写;和
- KLARF文件导入功能支持nanoIR自动化功能。
这些功能和纳米化学与高度解决红外光谱表征,使学术和工业用户克服传统半导体材料缺陷识别的局限性。雷竞技网页版
高度图像(a)和产生的光热光谱分析AFM-IR光谱(b)从裸露的硅晶片上的污染物。结果从红外光谱库匹配识别聚对苯二甲酸乙二醇酯的污染物。