ブルカーのDimension Icon®は、大型試料測定、高分解能、操作性、多機能、拡張性のすべてのニーズに合致し、従来製品を遙かに凌駕したAFM(原子間力顕微鏡)です。世界で最も利用されている大型試料向けAFMプラットフォームをベースに、数十年にわたる技術革新、お客様からのフィードバックを元に開発しており,業界をリードする幅広いアプリケーションに対応する高い柔軟性を兼ね備えています。ブルカーのDimension Icon®は、超低ノイズ・低ドリフトのクローズドループスキャナー搭載。更に新技術のPeakForce Tapping技術によりワンプッシュオペレーションを可能にしたScanAsyst機能及び定量的機械特性マッピング機能のPeakForce QNMを搭載可能にした画期的AFMです。
迪mension Iconの優れた分解能とブルカー独自の電子走査アルゴリズムは、ユーザーに測定速度と品質を大幅に向上させます。アイコンは、ブルカーの業界をリードするチップスキャンAFM技術の集大成であり、温度補償型の位置センサーを搭載し、Z軸ではサブオングストローム範囲のノイズレベルを、XYではオングストローム範囲のノイズレベルをレンダリングします。これは、高分解能AFMのオープンループノイズレベルを上回る、大サンプル、90ミクロンのスキャンレンジシステムにおける並外れた性能です。また、XYZクローズドループヘッドの新しいデザインは、画像品質を損なうことなく、より高いスキャン速度を実現し、データ収集のためのより高いスループットを可能にしています。Bruker独自のPeakForce Tapping®により、Dimension Iconは日常的に最高解像度の画像を作成することができます。
ブルカーAFM Dimension ファミリーは、他のどの大型試料向けAFM プラットフォームよりも多くの公開データを可能にし、その過程で研究と産業の両方で象徴的な評価を得てきました。Icon は、このプラットフォームを新たなレベルに引き上げ、より高いパフォーマンスと迅速な結果を提供します。ソフトウェアの直感的なワークフローにより、高度な AFM テクニックであっても、これまで以上に簡単に実行することができます。Icon のユーザーは、専門家による通常の微調整に何時間も費やすことなく、高品質な結果を即座に得ることができます。広く開いたチップやサンプルへのアクセスから、事前に設定されたソフトウェア設定まで、Dimension Icon のあらゆる面が、トラブルのない操作と驚くほどの AFM の使いやすさのために特別に設計されています。
ブルカーのDimension Iconは、妥協のない性能、堅牢性、柔軟性を備えており、これまで広範囲にカスタマイズされたシステムでは得られなかったスケールで、ほぼすべての測定を実行できます。オープンアクセス プラットフォーム、大型または複数のサンプル ホルダー、多数の使いやすい機能を利用することで、AFM のパワーを研究者や産業界に開放し、高品質な AFM イメージングとナノマニピュレーションの新しい基準を打ち立てます。
また、Dimension Icon は、パフォーマンスに影響を与えることなく柔軟性を提供します。
使用可能なイメージングモードの比類のないスイートで、Brukerはあらゆる調査のためのAFM技術を持っています。
コアイメージングモードのバックボーン(コンタクトモードとタッピングモード)に基づいて構築されたBrukerは、サンプルの電気的、磁気的、または材料特性を調査できるAFMモードを提供します。Brukerの革新的な新しいPeakForceのタッピング技術は、いくつかのモードに組み込まれた新しいコアイメージングパラダイムを表し、地形、電気、機械的特性データを並行して提供します。
ブルカーの维度图标は地球上で最もカスタマイズ可能で柔軟性の高いAFMです。迪mension Iconは、私たちの研究室での重要な進歩、すなわち、表面電圧顕微鏡の開発や、太陽燃料用フォトアノードの心臓部である電荷移動ダイナミクスの解明を可能にしました。また、ブルカーの先進的なアプリケーションチームからの優れたサポートを常に頼りにしています。
Bruker Icon AFMシステムは、2年前に当社のクリーンルーム施設に設置され、多くのユーザーに低ノイズで高解像度のイメージングを提供し、多くの種類のサンプルで信頼性の高い性能を発揮する唯一の装置です。ScanAsystモードでは、AFMプローブを数週間にわたって良好な状態で保存し、短いトレーニングの後、どのような学生でも独立して測定を開始することができます。私たちは非常に満足しています。
迪mension Iconシステムの新しい多機能原子間力顕微鏡は、ScanAsystとPeakForce QMMにより、ナノスケールの表面特性や接着や弾性率などのトポグラフィーを明らかにします。導電性AFMとKPFM機能を組み込むことで、界面接合とデバイス特性の両方を観察することができ、プロファイルの形態や界面の状態をより詳細に理解するのに役立ちます。さらに、Icon の高速性と信頼性により、迅速なプロセス チェックと解析が可能になります。