半導体ソリュ,ション

現在と未来の半導体製造プロセスに対応するプロセス機器と計測ソリュ,ション

半導体向け計測ソリュ,ション

ブルカー・セミコンダクターは,新しい,高速,非接触,非破壊のX線技術をベースにする薄膜用計測ソリューションの開発,製造,販売,サポートを行っています。ブルカーは比類のないレベルの世界的な顧客サービスとサポートで知られるジョーダンバレーセミコンダクターズを買収し,その結果,世界のトップ25の半導体メーカーのうがち75%,次世代薄膜の開発を含むフロントエンドおよびバックエンド用途でブルカーの計測ツールを利用しています。ブルカーでは革新と技術のリーダーシップを維持するべく努力を続けており,計測における新たな先進技術を常に世に送り出すことで,数多くの賞を受賞し,業界での高い評価を獲得してきました。

c薄膜素材の特性評価からウエハー基板分析,欠陥検出までのさまざまな応用分野において,ブルカーのシステムはシミュレーション解析とシミュレーションフィッティングを実現します。研究者,生産エンジニア,工程開発者が,比類のない能力を発揮できるよう,HRXRD, XRR, WA-XRD,およびXRDI測定タイプを完全にサポートしています。ブルカーは,セミファブリケーター,cファブリケーター,研发センター/学術研究,または工業用素材研究機関など,どのような機関であっても,お客様の計測ニーズに合った専用設計のソリューションをご用意しています。

Automated-AFM

自动AFM计量

自动AFM测量解决方案可靠地测量表面粗糙度,化学机械平面化(CMP)和蚀刻深度特征
TriboLab CMP抛光样品

化学机械抛光

硅片的高成本效益台式抛光和材料及工艺表征
用低温CO2清洗晶圆

低温干洗

低温CO₂清洁系统可去除晶圆和电子设备上的污染物和残留物
在硅片上测量时使用smartprobe

平面电流隧道(CIPT)

平面电流隧道法是表征磁隧道结的一种快速、经济的方法。
OVERVIEW-filmtek

薄膜厚度与RI半计量

专门用于晶圆和CD计量的薄膜计量系统,设计用于满足常规设备无法测量的要求
Nanomechanical-Metrology-Tools-Teaser-BRUKER

纳米机械计量工具

自动化计量解决方案提供高速、高分辨率、最高灵敏度的机械性能和/或界面粘附测量
photomask-repair

光掩模修补

精确的掩模修复系统解决了控制高端掩模上图案缺陷的关键生产问题
针表面光度仪

笔计量

表面粗糙度表征,台阶高度测量,薄膜应力分析
Electronic-circuit-board-futuristic-server-code-teaser-STOCK

白光干涉法

先进的WLI分析器为先进的包装应用提供强大的基于计量的检查
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x射线缺陷检查

布鲁克缺陷检测系统检测晶体缺陷,如裂纹、滑移、位错和单晶衬底上的微管
close-up-of-patterned-wafer-teaser

化合物半半x射线计量

不同的x射线计量系统提供高质量的QC监测和外延层薄膜的详细研发分析
Silicon-patterned-wafer-teaser

硅半晶片x射线计量

用于薄膜的无损x射线计量解决方案,可识别衬底缺陷,并对epi薄膜和高k介质进行前端线控制,以及分析金属薄膜和晶圆级封装凸起

支持

我们如何提供帮助?

Bruker与我们的客户合作解决实际应用问题。我们开发新一代技术,帮助客户选择正确的系统和配件。这种合作关系将通过培训和扩展服务继续下去,直到工具出售很久之后。

我们训练有素的支持工程师、应用科学家和主题专家团队完全致力于通过系统服务和升级,以及应用程序支持和培训,最大限度地提高您的生产力。