半导体解决方案

低温干洗

低温二氧化碳清洗

非常快速和环保,布鲁克的干低温CO2与传统的清洁技术相比,清洁技术具有独特的优势。布鲁克技术具有成本效益、非破坏性、无废物和残留物、消除腐蚀和染色的特点。布鲁克已安装了100多个工具,可提供低温CO2加工设备适用于大多数半导体细分市场的广泛应用。

为什么要考虑低温清洗

我们的客户受益于技术的许多固有方面以及布鲁克设备的完善专利功能。我们的低温干洗系统提供低成本的拥有:

  • 采用我们的专利喷嘴设计,具有卓越的清洁性能
  • 经过验证的高需求应用的24/7生产性能
  • 高产量保证了高资金利用率
  • 紧凑的系统设计需要最小的洁净室空间
  • 成品率的提高没有看到标准的湿或等离子清洗工艺

力量的承诺

作为干式CO的领先创新者2技术,布鲁克设定了质量标准的干法清洗。该公司目前在低温CO的许多领域拥有超过25项美国和国际专利2清洗。这一创新已成为生产低温CO的标准2清洁超过30年。

我们最先进的应用实验室在德尔雷海滩,佛罗里达州提供了一个位置,我们的全球客户群可以来开发新的清洁技术或优化他们现有的流程。

了解更多关于低温CO2清洁技术可以解决你最棘手的污染问题联系我们了解更多信息或安排演示。

支持

我们能帮什么忙?

布鲁克与我们的客户合作解决实际应用问题。我们开发下一代技术,帮助客户选择合适的系统和配件。这种伙伴关系通过培训和延长的服务,在工具销售后很长一段时间内继续下去。

我们训练有素的支持工程师,应用科学家和主题专家团队完全致力于通过系统服务和升级以及应用程序支持和培训最大限度地提高您的生产力。

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