极品光刻清洗机
第二代光掩膜干洗系统
生产CO₂深冷颗粒去除
汪汪汪汪
极限光刻清洗机(EL-C)
EL-C®该系统可用于各种应用，包括在生产和处理过程中前后去除沉积的颗粒，特别是来自其他设备的颗粒加法器。EL-C过程是干和污染的自由。口罩可以根据需要经常清洗，100%的软颗粒去除效率低至50nm尺寸。
二氧化碳干洗
production-proven过程
在全球多个地点，包括晶圆厂和掩模车间，使用先进技术的节点掩模
完整的前后侧
光学和EUV掩模的清洁
几何特征的纵横比高达3:1
没有损坏
超过50+ CO₂清洁循环
对脆性结构或≥40nm的srf无损伤;无透射或反射效应;无减震器损坏
100%
软颗粒去除效率
特長
低温气溶胶光掩膜清洁支持全掩膜清洁
先进光掩膜在制造和处理过程中的未知颗粒污染一直是并且仍然是一个问题。随着掩模材料变得雷竞技网页版越来越复杂，几何形状不断缩小，对更高效、无损伤的清洁技术的需求变得越来越重要。许多旧的、成熟的清洁技术在去除软颗粒方面已经变得不那么有效，并且已经成为特征损坏和掩盖表面污染的来源。几年前，布鲁克推出了一种新的掩膜清洁替代方案，即Extreme Lithography Cleaner (EL-C®)全掩膜低温干法清洁系统产品线。Bruker EL-C®系统现已在全球多个晶圆厂的掩膜车间和掩膜管理设施中投入生产运行。
全自动或手动负载操作
- SMIF和架空轨道兼容;RFID / OCR /条形码阅读器
- 秒/宝石兼容
- 操作方便;高度用户友好的GUI
アプリケーション
多种面膜清洁应用
- EUV &光学前端清洗
- EUV和光学背面清洗
- 全面膜清洁
- 局部(点)清洁
- 预修复清洁(区分“软”和“硬”缺陷)
- 修复后清洁(纳米加工碎屑)
- 持久颗粒清洁
- 从其他设备上拆卸加法器
- 面膜空白清洁
超级超级超级超级
支持
我们能帮什么忙?
布鲁克与我们的客户合作解决实际应用问题。我们开发下一代技术，帮助客户选择合适的系统和配件。这种伙伴关系通过培训和延长的服务，在工具销售后很长一段时间内继续下去。
我们训练有素的支持工程师，应用科学家和主题专家团队完全致力于通过系统服务和升级以及应用程序支持和培训最大限度地提高您的生产力。