전자현미경분석기

Tem을위한콴탁스eds

干,tem및t-sem용에너지분산x선분광계

나노스케일원소매핑

정량적소매핑

하이라이트

>15
Tem의실리콘드리프트검출기경험
검출기재료및구동전자장치는빠르고정확하며신뢰할수있는데이터수집을위해설계되었으며원자해상도에서도고급TEM성능에간섭하지않습니다。
80
케빈
소id및정량화에대한전례없는상부에너지제한
Tem특이적고에너지전자와따라서정량적eds에대한더높은에너지소자라ree
1
원자
단일원자id및원자열매핑
하이엔드고형색고휘도고휘도콜드FEG수차보정茎과결합된고체각도XFlash 6 t검출기를사용하여몇초이내에단일원자식별

나노미터스케일의tem, stem및sem (t-sem)의eds엘리먼트매핑

선명한다목적측정설정과슬림한지오메트리는일상적으로신뢰할수있는TEM EDS데이터를빠르게보장합니다。하이퍼스펙트럼이미지는소위하이퍼맵또는스펙트럼이미지를사용하여획득됩니다。정확한정량분석에필요한픽셀당스펙트럼및모든메타데이터는검사및처리를위해저장됩니다。

  • 각현미경극조각유형에대한슬림라인디자인과기하학적최적화는최대의수집및이륙각도를보장합니다。
  • 시편기울기,흡수,섀도우및시스템피크를방지하는데도움이됩니다。
  • 특히경원요소의K라인과L, M -및더높은Z -요소라인의저에너지영역에서검출효율을더욱높이기위한창없는검출기。
  • 기본적으로자동철회및사용자지정은긴검출기수명과다재다능한실험을보장합니다。
  • 화학적변화가실시간으로기록되는재료가열과같은eth -시eth -및오페라내실험의자동모니터링。
  • 데이터분석을위한포괄적소프트웨어제품군esprit。

혜택

온라및오프라tem eds용소프트웨어

Tem을위한quantax eds에는유연하고명한분석소프트웨어패키지ESPRIT가포함되어있습니다。기본및조정가능한방법을사용하면요소매핑,소위HyperMaps또는스펙트럼이미지및정량적요소맵생성의빠르고포괄적인데이터마이닝이가능합니다。스펙트럼,개체,선스캔및요소매핑에대한표준기반및표준없는정량화루틴뿐만아니라PCA기반위상분석및자동화된통계적부분분석이포함됩니다。

  • 학생또는실험실네트워크를위한개인하드웨어키및/또는局域网옵션이있는오프라인분석소프트웨어입니다。
  • 개방형명사용자터페이스:시되는것은사용자가얻는것입니다。
  • Eds데이터에대한정량화루틴의설정,수정및저장/재부하를지웁다。
  • 전자명본을위한두가지정량화방법:절벽-로리머-및제타-팩터-방법。
  • 이론적절벽-로리머팩터는Sem (Sem의tem)에대한저전압을포함하여모든전압에대해계산할수있으며,이는꾸준히업데이트된대규모원자데이터베이스를이용하여산출될수있습니다。
  • 표준표본을사용하여실험적인Cliff-Lorimer및Zeta-Factors를쉽게소프트웨어유도교정합니다。
  • 모든요소에대한ζ계수는기존Cliff-Lorimer-Factors를사용하여몇가지요소표준에서만계산할수있습니다。
  • 배경모델의선택:전자투명및대량표본뿐만아니라수학배경계산을위한물리적모델。
  • 다른템플릿으로생성을보고합니다。

응용

분석도전이란무엇입니까?

효모셀의밝은필드이미지및단일소맵

생명과학을위한eds

S / TEM의EDS는재료의많은요소를한번에결정해야하는경우에특히유용합니다。이것은꽤많은생명과학응용프로그램에대한경우。
原地要素图

高温下的原位元素测绘

使用加热支架或任何其他原位反应单元,适用于电子显微镜和EDS,允许在电子显微镜中监测材料的原位或操作中处理的效果。雷竞技网页版这意味着关于结构和元素组成变化的信息可以以高空间分辨率定性和定量地获得。
PD-Pt코어쉘입자의HAADF이미지

Pd pt코어쉘입자의질적및정량적매핑

코어쉘입자는나노기술,특히촉매에서점점더중한역할을합니다。이응용프로그램예제에서는Pd-Pt코어쉘나노입자의소맵을제공합니다。
그래핀의단일실리콘원자

그래핀에하나의원자를식별

EDS의가장높은예술은단일원자의스펙트럼을얻을뿐만아니라특정요소의여기속성에대한귀중한새로운정보를제공할수있습니다。
나노와이어의혼합원소지도

나노와이어의화학적특성화

나노와이어및나노로드및기능성나노차량과같은나노구조는나노기술의다양한응용분야에대한관심이증가하고있으며,인체에서나노전자또는약물전달이될수있다。
상호연결구조의높은각도환상암필드이미지

반도체상호연결의화학적조성

기존의스캐닝전송전자현미경30平方毫米(STEM)에의검출기영역을사용하는표준에너지분산X선분광법(EDS또는EDX)은몇분이내에nm해상도의원소매핑을제공할수있습니다。조건은,검출기헤드가충분히작아서(슬림라인설계에서)시편(높은고체각도)에가깝게얻을수있으며시편(높은이륙각도용)에대해가능한한높다는것입니다。후자는그림자와흡수효과를방지하는데도움이됩니다。