nm-VI
第六代AFM Nanomachine引导
5 nm生产光掩模修补
하이라이트
精密修复先进、临界水平光掩模
力量的AFM nanomachining系统是全球标准和优先生产技术先进的精密修复,临界水平光掩模。的nm-VI®系统是力量的第六代AFM-Guided Nanomachine。nm-VI集力量分开公司,开发和提供创新的纳米材料形成过程必须保持半导体产业与5纳米技术节点。
广泛
可移动的材料雷竞技网页版
包括铬、莫西人不透明的莫西人,罪恶,石英、EUV,外国材料,和持久的未知粒子。雷竞技网页版
≤20
从目标边缘位置(±)
AFM-guided nanomachining修复过程是由最后的几何,独立的材料组成、材料接口或几何被删除。
≤10
从目标深度(Z)控制(±)
非凡的z控制允许维修具体匹配指定的参考或不同的偏见或衬底表面以下的阶段匹配。
특징
业界领先的面具修复方法
Nanomachining是一个独特的缺陷修复技术在半导体行业,结合AFM的位置控制和专有Nanomachining硬件和软件进行材料去除在纳米水平。
它的吸引力在于精密,准确消除缺陷的各种材料,包括chrome,莫西人,不透明的莫西人,氮化硅,石英、EUV,外国材料,和未知的粒子。雷竞技网页版其迭代修复能力和平面材料去除保证修理的地区更广泛的“焦点”传播窗口。
解决行业的关键挑战
六代和近20年的行内经验,力量的AFM-guided nanomachine拥有独特的优化和增强控制模式生产高端光掩模缺陷尺寸减少和增加面具的复杂性。值得注意的功能包括:
- 标准BitClean®函数——特殊的硬件和软件自动化提供最终pre-pellicle当地清洁能力使用nanomachining提示删除持久的未知粒子污染。
- 集成本地模式复制功能与系统标准。
- 设计图像检索方案(可选)包括计算机硬件和nm-VI系统接口软件。它提供的功能检索部分面具修复区域模式的图像从原始设计文件,对AFM扫描图像,显示和覆盖在指定的修复区域运营商执行修复。
技术以最小的权衡
nm-VI提供生产证明nanomachining几乎没有缺点。的AFM-based nanomachining技术拥有以下超过其他(聚焦离子束(FIB)和激光或电子束)面具修复系统。
- 没有真空要求
- 没有化学反应
- 没有化学残留
- 没有梁相关充电效果
- 不需要不断漂移修正导致不良的定位标记
지원
支持
我们如何帮助?
力量合作伙伴与客户解决实际应用问题。我们开发新一代技术,帮助客户选择合适的系统及配件。这种伙伴关系继续通过培训和扩展服务,很久以后销售的工具。
我们的训练有素的团队的支持工程师,科学家和应用主题专家是完全致力于最大化工作效率与系统服务和升级,以及应用程序的支持和培训。