极限光刻清洗机
第二代掩模干洗系统
生产CO₂低温颗粒去除
母亲是żniejsze informacje
极限光刻清洗机(EL-C)
EL-C®系统用于各种各样的应用，包括正面和背面去除在生产和处理过程中沉积的颗粒，特别是来自其他设备的颗粒添加器。EL-C过程是干而且污染的自由．掩模可以根据需要经常清洗，100%的软颗粒去除效率，直至50nm尺寸。
CO₂干洗
production-proven过程
在全球多个工厂(包括晶圆厂和掩模车间)操作先进技术节点掩模
正面和背面都很丰满
光学和EUV掩模的清洗
具有高宽比高达3:1的几何特征
没有损坏
超过50+ CO₂清洁循环
对脆性结构和≥40nm的SRAFs无损伤;无透射或反射效应;无减震器损坏
100％
软颗粒去除效率
Cechy charakterystyczne
低温气溶胶掩模清洁支持全掩模清洁
在晶圆厂的先进掩模制造和掩模处理过程中，未知的粒子污染一直是并且仍然是一个持续的问题。随着掩模材料变得雷竞技网页版越来越复杂，几何形状不断缩小，对更高效和无损伤清洁技术的需求变得越来越重要。许多旧的、成熟的清洁技术在去除软颗粒方面已变得不那么有效，并成为特征损坏和掩模表面污染的来源。几年前，Bruker推出了一种新的掩模清洗替代品，即全掩模低温干洗系统的极端光刻清洗机(EL-C®)产品线。Bruker EL-C®系统目前已在多个掩模车间和全球晶圆厂的掩模管理设施中投入生产运营。
全自动或手动加载操作
- 兼容SMIF和架空轨道;RFID / OCR /条形码阅读器
- 秒/宝石兼容
- 操作方便;高度用户友好的GUI
Aplikacje
多种掩模清洗应用
- EUV和光学前端清洗
- EUV和光学背面清洗
- 全面罩清洁
- 局部(斑)干净
- 预修复清洁(区分“软”和“硬”缺陷)
- 修复后清洁(纳米加工碎片)
- 持久颗粒清洁
- 移除其他设备上的加筋器
- 掩模空白清洁
Wsparcie
支持
我们如何提供帮助?
Bruker与我们的客户合作解决实际应用问题。我们开发新一代技术，帮助客户选择正确的系统和配件。这种合作关系将通过培训和扩展服务继续下去，直到工具出售很久之后。
我们训练有素的支持工程师、应用科学家和主题专家团队完全致力于通过系统服务和升级，以及应用程序支持和培训，最大限度地提高您的生产力。