TriboLab CMP
研发规模的工艺和材料表征系统
Destaques
TriboLab CMP
利用超过20年的CMP表征专业知识及其前身产品(Bruker CP-4)， TriboLab CMP为行业领先的TriboLab平台带来了一整套功能。由此产生的精度和测量可重复性使整个CMP过程所需的高效鉴定、检查和正在进行的功能测试成为可能。TriboLab CMP是市场上唯一的工艺开发工具，可以提供广泛的抛光压力(0.05-50 psi)，速度(1至500 rpm)，摩擦，声发射和表面温度测量，以准确和完整地表征CMP工艺和耗材。
无与伦比的
小规模研发系统的投资回报率
这种台式工具再现全尺寸晶圆抛光工艺条件，而不停机的生产设备。
灵活的
参数控制
允许量身定制的测试，以加速材料开发和精确地改进工艺。雷竞技网页版
专家
应用和支持
我们多年来与大型安装基地合作，为您的实验室提供专业知识。
Caracteristicas
面向CMP的小型研发专业系统
Bruker的TriboLab CMP工艺和材料表征系统是专门为晶圆抛光工艺的可靠，灵活和具有成本效益的bench表征而设计的。
- 再现全尺寸晶圆抛光工艺条件，生产设备无停机时间
- 提供无与伦比的测量重复性和细节
- 允许在小优惠券上进行测试，大大节省了整个晶圆测试的成本
机载诊断，更好地理解抛光过程
在TriboLab CMP测试仪上测试调节圆盘。测试确定了两组光盘。摩擦系数测试与衬垫磨损有关。
- 比市场上任何其他系统提供更多的瞬态抛光性能的可见性
- 从衬底接触衬垫的瞬间和整个测试过程中收集数据
- 通过更完整、详细的数据支持早期流程开发决策
样品类型，尺寸和安装配置的灵活性
- 抛光任何平面材料，使用几乎任何调理盘，任何浆液，任何垫
- 通过整个100毫米晶圆轻松容纳小优惠券
- 接受多个样本安装的灵活性
用于空调衬垫测试的CMP测试仪示意图。