半导体和纳米技术

光电子的领导

布鲁克的计量解决方案为生产监控和产量提高提供准确和可重复的测量。

LED Epi层监控

HRXRD是一种很好的外显层测量方法。的力量QCVelox-E是LED监控领域最先进的领导者,广泛应用于整个行业。

QCVelox-E实现全自动,高通量HRXRD测量,以及自动拉德分析并报告结果,使客户能够监控他们的过程,而不需要x光专家分析数据。可选配SECS-GEM工厂主机软件和机器人加载,完成系统自动化。

半导体衬底的常规分析

提高花纹蓝宝石衬底性能和成品率

了解图案蓝宝石衬底(PSS)的纳米尺度尺寸对于下一代材料的开发和保持生产质量至关重要。雷竞技网页版力量的三维光学剖面仪提供快速,准确的测量高度,间距和直径的PSS特征。

广泛的自动化功能使许多站点的操作员独立计量,从而可以很好地理解和控制晶圆的工艺变化。

此外,光学分析器而且笔分析器用于表征用于从底层蓝色LED产生白光的荧光粉层的粗糙度、厚度和形状。这些性质对光的转换效率有很大的影响,也会影响照明的颜色和均匀性。

PSS结构的亚纳米计量

当花纹蓝宝石衬底的间距低于2微米时,光学技术无法达到提供有价值的工艺计量所需的分辨率,原子力显微镜(AFM)提供精确的解决方案。它们提供亚纳米分辨率和测量所有必要数据的能力,以保持PSS制造过程在可控范围内。

光电子器件的晶粒织构与元素分析

理解纳米到微米尺度的元素组成和晶体性质是理解现代光电器件性能和行为的必要条件。Bruker提供了各种电子显微镜分析仪来研究SEM和TEM系统上的这些特性。布鲁克电子显微镜分析仪等扫描电镜EDS而且TEMEBSD改进算法而且Micro-XRF,可以分析纹理(EBSD)和低至ppm的元素分布,具有高空间分辨率,也可以分析分层材料(Micro-XRF)。雷竞技网页版特别快速的分析,如在质量控制或大样本区域需要,可以使用高收集角度的设备,如布鲁克XFlash®FlatQUAD探测器。

激光和LED发射,电致发光

FT-IR发射光谱是分析新型IR光源,激光,led或电致发光的理想工具。最高的光谱分辨率的研究系列FT-IR光谱仪允许完全分辨激光模式。时间分辨测量的时间分辨率可达低ns范围,可获得单激光脉冲。利用锁定技术的调幅步进扫描为记录极微弱的发射信号提供了可能。对于毫米或微米范围内的小发射器,适用于研究光谱仪的红外显微镜同时提供了出色的横向分辨率和最大的发射显微镜灵敏度。

红外光谱法检测和表征

自主研发的红外探测器可以用布鲁克FT-IR研究光谱仪进行测试和表征。单元素探测器可以直接适应研究系列光谱仪的外部光学。为表征焦平面阵列(FPA)探测器专用的外部测量模块可用。