表面敏感AFM-IR
化学见解顶部表面
力量专利的表面敏感AFM-IR模式使得高分辨率、高灵敏度的化学成像薄膜表面通过选择性化学探测的表层。的组合功能,表面敏感模式:
- 改善AFM-IR探测深度> 500海里的< 10纳米红外光谱的相关性;
- 结合高空间分辨率和高表面化学成像和光谱敏感性;
- 不需要浆纱切片;和
- 提供了互补的传统数据分析技术(红外光谱、XPS、TOF-SIMS)。
更多信息AFM-IR表面敏感,力量nanoIR技术,或升级你的nanoIR系统:
表面探测技术探测和卷
AFM-IR体积是一个强大的探测工具纳米化学成像和光谱和强烈关联absorption-based红外光谱测量。
表面敏感AFM-IR改善nanoIR作为表面探测技术使测量小,定量控制探测深度和体积。然后就有可能区分顶面数据的层和散装材料以外的探测深度。
在这个例子中,表面敏感AFM-IR光谱清晰地展示了电影和顶部之间的光谱差异大部分电影。
表面敏感AFM-IR联合Bruker-CNRS专利技术,是由教授亚历山大•Dazzi大学、法国巴黎de Saclay,随后由科学家和工程师在力量的增强。
表面敏感测量
示例演示了测量薄膜的厚聚合物薄膜。样品是一个约。30纳米聚苯乙烯(PS)电影在100 nm(甲基)丙烯酸酯聚合物基质。
红色光谱(与共振增强AFM-IR光谱收集)表明存在两种PS顶层(1452 & 1492厘米1在1736厘米)和PMMA基片1。
蓝色光谱(使用表面收集敏感AFM-IR)显示检测到,只有顶层的PS在PMMA基片缺席,这表明surface-sensitive性质的测量。
样品由阿里Dhinojwala阿克伦大学
删除谱饱和度
谱饱和度是一个重大的障碍分析厚,强大的红外吸收材料使用共振增强AFM-IR和其他传统的红外技术。雷竞技网页版这些技术也有限的能力区分红外信号从上表面和次表面/散装材料的样本。雷竞技网页版
相反,表面敏感AFM-IR可以消除谱饱和度和乐队扭曲和提供了一个红外信号,探测深度以外的水平,成为常数。
下面的例子展示了一个比较表面敏感的AFM-IR(绿色光谱)和共振增强AFM-IR厚聚酰亚胺薄膜胶带样品。
当测量共振增强模式,我们可以看到的证据谱饱和度羰基拉伸乐队在1720厘米左右1。表面灵敏度删除谱饱和度;光谱测量与表面敏感模式显示了两个乐队在1777和1720厘米1,这都可以分配给一个羰基伸缩振动模式。
显著降低数据的时间
为了确定多层膜的组成,传统的表征技术需要切成样品截面切片机。切片机截面然后放置平放在一个红外透明衬底进行分析,如这里,使得每一层的化学性质的识别。
相反,表面敏感AFM-IR使测量non-cross切割样品。因为它不依赖于使用切片机浆纱切片和耗时的样品,表面敏感模式大大减少了样品制备时间分析多层薄膜。
升级你的nanoIR
表面敏感AFM-IR模式是一个可用的选择维度IconIR nanoIR3/3-s / 3 s宽带系统,可以利用最新的力量HYPERspectra QCL激光(白天)和nanoIR宽带激光光谱学(猿GmbH)。安装系统可以升级的升级以适当的兼容性。兼容性nanoIR2和nanoIR2s系统预计在未来。更多信息请联系力量。
看到表面敏感AFM-IR演示了在实时nanoIR3-s表面特性的薄膜车间:
