解决硅化钽半导体的峰重叠
1.6-1.9 keV能量区域的钽硅化物的X射线光谱。与EDS（红色宽峰）相比,WDS的高能量分辨率让Ta 和Si 的谱峰完美分离。
钽硅化物作为氧化或耐温涂层材料,被广泛的应用于微电子和光学器件。在半导体材料（如硅片）中,钽硅化物也常常充当耐火材料。
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最终我们得到的 EDS 峰值相较主要元素的理论峰值略有变宽,并掩盖了第二个元素的存在。相比之下,使用QUANTAXWDSTa+++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++++