JVX7300LSI
多才多艺的x射线衍射仪自动化薄膜生产监测
颗研发
亮点
JVX7300LSI
颗JVX7300LSI自动化衍射仪是专为半导体材料的研发和生产过程在线监控。雷竞技网页版它使全自动半导体行业的许多先进材料的表征。雷竞技网页版JVX7300L是标准配置,包括扫描HRXRD XRR, XRD、GI-XRD WA-XRD应变计量,薄膜和相位分析晶圆。具有全自动光学来源,系统可以切换标准XRD,高分辨率,和x射线反射率模式无需用户干预,甚至在同一配方批。完全自动化的校准、测量、分析和报告的结果可以确保生产和快速表征薄膜。
高动态
范围
0 d检测器1 d, 2 d选项
水平
安装
提供快速表征薄膜在300毫米,200毫米,150毫米晶圆尺寸。
完全自动化的
源光学
使无人值守切换标准XRD、高分辨率和x射线反射率模式。
特点
关键特性
多才多艺的x射线衍射仪自动化薄膜生产监测
- XRR:薄膜厚度、粗糙度、密度和堆栈
- XRD(掠入射/广角):阶段,结晶度,质地,残余应力
- 平面XRD:阶段,超薄薄膜的结晶度
- HRXRD:应变外延层的厚度、成分。
高吞吐量
- 高通量源
- 高动态范围0 d检测器,1 d, 2 d选项. .
高分辨率
- 高角分辨率测角仪
- 光学散度低。
300 - 200 - 150 mm晶圆,安装水平
完全自动化
- 晶圆处理2 FOUP负载端口
- 配方驱动工具配置更改及晶体和狭缝
- 示例分析流——从校准报告
- 秒/宝石。
业界领先的控制和分析软件拉德。参考文献
半S2 / S8, CE
应用
关键应用程序
JVX7300LSI是利用在全球先进节点逻辑和内存芯片。
关键应用程序:
- High-K厚度、密度和结晶度DRAM和NAND闪存
- III-V如果未来的节点上的发展
- 氮化镓对Si的功率晶体管
所有应用程序都是通过我们的综合分析软件套件进行分析,模拟和适合:拉德和参考文献。
配件
选项和配件
S通道
小点的测量测试结构的晶片,S通道可以添加,光斑大小50µm x 50µm样本。通道可以是配置为一个高分辨率的梁,对于µHRXRD外延层的应变测量,或作为阶段µXRD梁、结晶度和取向测量晶体的电影。
S通道完全自动化的模式识别。
我的频道
阶段和定位监测超薄水晶电影启用可选我为平面x射线衍射测量通道。
支持
支持
我们如何帮助?
力量合作伙伴与客户解决实际应用问题。我们开发新一代技术,帮助客户选择合适的系统及配件。这种伙伴关系继续通过培训和扩展服务,很久以后销售的工具。
我们的训练有素的团队的支持工程师,科学家和应用主题专家是完全致力于最大化工作效率与系统服务和升级,以及应用程序的支持和培训。